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业内*表示，我国半导体硅材料行业生产水平与国际先进企业的生产水平之间的差距是巨大的，我国现在集成电路工艺还处在0.18μm、0.25μm，而国际先进工艺已达到32nm，导致此落后局面的很大一部分原因是由于我国集成电路材料的纯度、材料加工的精度还达不到要求。因此，突破国外技术封锁，掌握集成电路材料制造的核心技术是当前国内材料企业面临的主要挑战。

而我国IC材料生产企业自身难以承担建设有竞争力的、大规模的8英寸及12英寸硅片生产线所需的巨额投资，这需要国家和地方**的大力扶持。因此，他们唿吁，国家应该制定有关政策鼓励采用国产材料(如联合开发研究、利益成果共享等)，使国内半导体材料生产企业有进入半导体用户企业进行产品认定、试用的机会和条件。

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